正胶与负胶

光刻胶（Resist)： 是指一大类具有光敏化学作用的高分子聚合物材料。又称光阻，抗蚀剂等。这里的光可以是UV波段的i-line(365nm), g-line(436nm)DUV,EUV也可以是电子束（E-beam),X-ray,离子束甚至是同步辐射光源等。

光刻-光学曝光

光学曝光也称为光刻，用特定的波长的光进行辐射，将掩膜版上的图形通过曝光和显影转移到光阻层上的过程。光学曝光可用于制备测量电极，研究材料特性，可用于加工自然界并不存在的特异结构，如左手材料。可用于新型纳米器件和电路的加工。