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ilabilab
2584
2022-02-11
光刻胶(Resist): 是指一大类具有光敏化学作用的高分子聚合物材料。又称光阻,抗蚀剂等。这里的光可以是UV波段的i-line(365nm), g-line(436nm)DUV,EUV也可以是电子束(E-beam),X-ray,离子束甚至是同步辐射光源等。
585
2022-01-14
光学曝光也称为光刻,用特定的波长的光进行辐射,将掩膜版上的图形通过曝光和显影转移到光阻层上的过程。光学曝光可用于制备测量电极,研究材料特性,可用于加工自然界并不存在的特异结构,如左手材料。可用于新型纳米器件和电路的加工。
2616
2021-12-26
ezAFM+为传统型便携式小型原子力。结构紧凑小巧,悬臂自对准,无需调整激光斑。 台阶高度,形貌扫描测量,力曲线功能,电学成像/磁学成像(可选)理想的实验室用原子力显微镜,广泛应用于高等教育、纳米技术教育和基础研究等领域。
2636
2022-12-28
2431
2021-12-28