正胶与负胶

光刻胶（Resist)： 是指一大类具有光敏化学作用的高分子聚合物材料。又称光阻，抗蚀剂等。这里的光可以是UV波段的i-line(365nm), g-line(436nm)DUV,EUV也可以是电子束（E-beam),X-ray,离子束甚至是同步辐射光源等。

光刻-光学曝光

光学曝光也称为光刻，用特定的波长的光进行辐射，将掩膜版上的图形通过曝光和显影转移到光阻层上的过程。光学曝光可用于制备测量电极，研究材料特性，可用于加工自然界并不存在的特异结构，如左手材料。可用于新型纳米器件和电路的加工。

ezAFM

ezAFM+为传统型便携式小型原子力。结构紧凑小巧，悬臂自对准，无需调整激光斑。 台阶高度,形貌扫描测量,力曲线功能,电学成像/磁学成像（可选）理想的实验室用原子力显微镜，广泛应用于高等教育、纳米技术教育和基础研究等领域。

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